作物学报 ›› 2004, Vol. 30 ›› Issue (04): 308-314.
欧志英;彭长连;林桂珠
OU Zhi-Ying;PENG Chang-Lian;LIN Gui-Zhu
摘要: 通过外源MV光氧化处理(200 µmol/L MV,PPFD 2 000 µmol·m-2·s-1,1 h)研究超高产杂交水稻培矮64S/E32及其父本(E32)、母本(培矮64S)叶片的耐光氧化性及其生理机理。与只照强光的对照相比,光氧化导致电解质渗漏率增加,膜脂过氧化加剧,降低PSⅡ活性(Fv/Fm、ΦPSⅡ)及叶绿素荧光猝灭(qP、NPQ),增加
中图分类号:
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